用于電子顯微鏡觀察的鋨鍍膜裝置HPC-20介紹
該裝置是一種用于電子顯微鏡觀察的鋨鍍膜裝置。配備觸摸屏和定序器控制,任何人都可以輕松地全自動在樣品上進行導電膜沉積。采用空心陰極樣品臺,采用低壓放電進行鍍膜,對樣品幾乎無損傷。由于空心陰極內部產生均勻的高密度等離子體,因此無論樣品的高度或材料如何,放置在圓柱體內的樣品表面都會形成均勻厚度的Os膜。由于僅將所需量的鋨氣體注入空心陰極,因此消耗較低,并且未反應的氣體被活性炭捕集器吸附和去除,抑制了有害氣體釋放到大氣中。
目的
用于 SEM 和 TEM 的鋨鍍膜設備。由于其細小的粒徑和出色的環(huán)繞特性,它對于高倍觀察目的和復雜形狀的樣品非常有效。超薄 Os 導電涂層還使其適用于 EBSD 分析、俄歇分析和 X 射線分析。
主要產品規(guī)格
物品 | 規(guī)格 |
電源 | AC100V(單相100V 15A)1口 ,3芯帶地線插頭(3m) |
設備尺寸 | 寬470mm,深400mm,高412mm (重量25Kg) |
旋轉泵 | 寬120mm,長290mm,高250mm 抽速30?/min 特種油用旋轉泵 (重量11Kg) |
樣品室尺寸 | 內徑120mm,高77mm(硬質玻璃材質) |
電極 | 陽極:Φ110mm 陰極:內徑Φ108mm,深度35mm (基于我們的空心陰極法) |
樣品臺尺寸 | Φ98mm,空心陰極內浮動安裝 |
可安裝樣品尺寸 | Φ98mm,含樣品臺高度45mm |
鋨安瓿標準品 | 厚度:Φ12.8mm以下 高度:尺寸型60mm以下、安瓿型65mm以下 |
OsO4 消耗量(使用次數) | 每1g安瓿約100次(標準使用條件下) (使用次數根據使用頻率和成膜時間而變化) |
雙語顯示功能 | 具備日、英文顯示切換功能 |